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当前所在位置: 首页 ? 中心 ? 一种用于半导体厂房dejiejing蕐e闹苲uo方法

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时间:2020-05-24  来源:车间jing化gongcheng|shi品jing化车间|jiejing手术室|jiejing实验室-济南金贝娱乐下载jing化gongcheng有限公司  浏览磜en? 85 次
文章jian介:一种用于半导体厂房dejiejing蕐e闹苲uo方法, 一种用于半导体厂房dejiejing蕐e闹苲uo方法 【专lizhai要】本实用新型公kailiao一种用于半导体厂房dejiejing室,bao括一da型jiejing空间ji回风通道;da型jiejing空间从上到下bao括jiagou空间、

一种用于半导体厂房dejiejing室de制zuo方法

【专lizhai要】本实用新型公kailiao一种用于半导体厂房dejiejing室,bao括一da型jiejing空间ji回风通道;da型jiejing空间从上到下bao括jiagou空间、jiejing空间he循环空间,所述循环空间内设有fu助设备;所述循环空间内设置fu助设备de区域de四周均设有ge板,使其gou成独立de密闭空间;在所述jiejing空间内相对于所述密闭空间de位置设有至shao1个回风柱,所述回风柱de顶端与jiagou空间lian通,其底端与高jia地板lian通;所述回风柱内设有风机。本实用新型jie决liaofu助设备易产生xie漏dewen题;与citong时,在jiejing空间内相对于所述密闭空间de位置设置多个回风柱,通过回风柱实现气流循环,tong时还充分li用liao其内dejiejing空气,而且jiang低liao消耗。

【专li说明】一种用于半导体厂房dejiejing室

【技术领域】

[0001]本实用新型涉ji一种用于半导体厂房dejiejing室,shi指用于半导体dechang合。

【背景技术】

[0002]半导体厂房shi专门用来制备半导体器件de地方,目前已经得到liaoguang泛应用。由于半导体器件de特殊性,要求半导体厂房必须设计成jiejing室,以满足恒wen恒湿以jijiejing度等要求。对于一些高端半导体de厂房,如32/28nm,shen至以下de高端制cheng,bu但对jiejing度de要求较高,且对漂浮于空气中de悬浮化学分zi气体污染更wei严格。

[0003]现有de用于半导体厂房dejiejing室参jianfu图1所示,主要bao括新风shu送系蚦hang⑴牌低砲e一da型jiejing空间,所述da型jiejing空间从上到下bao括jiagou空间4、jiejing空间5he循环空间6,jiagou空间hejiejing空间zhi间设有天花板7,jiejing空间he循环空间zhi间设有高jia地板2he混凝土板3。

[0004]所述da型jiejing空间内设有各种加gong设备,在循环空间(又chen技术夹层)内会设有各种fu助设备1,如真空泵、冷冻机等,实际应用fa现:真空泵会因weizhen动而松脱,导致气体xie漏;冷冻机de配管在清洗过cheng中因蝐i鬶uo接头松动而xie漏腐蚀性气体。在以往dean例中,尤其shiganke蚀区会经changfa生上述事故,导致腐蚀性气体xie漏,这bu仅会造成导线腐蚀,而且这些腐蚀性气体还会通过回风通道进ru整个jiejing空间,造成散布扩散,从而影响liao产品de质量。这种因wei位于循环空间内defu助设备xie漏而造成整个jiejing空间de污染事件时有fa生。

[0005]针对上述wen题,现有技术采用de方法shi在jiejing室内设置化学过滤器,但由于jiejing室内de空间较da,很难做到完全清chu,且gai法de成本极高;这对于一些高端半导体de厂房(如32/28nm高端制cheng)shi非chang致命de,yuan因shi高端半导体产品对腐蚀性气体de含量要求更高。因ci,kaifa一种能避免腐蚀性气体影响dejiejing室,对于一些高端半导体de厂房ju有积极de现实意义。

【fa明内容】

[0006]本实用新型de目deshi提供一种用于半导体厂房dejiejing室。

[0007]wei达到上述fa明目de,本实用新型采用de技术方anshi:一种用于半导体厂房dejiejing室,bao括新风shu送系蚦hang⑴牌低砲e一da型jiejing空间ji回风通道;

[0008]所述da型jiejing空间从上到下bao括jiagou空间、jiejing空间he循环空间,jiagou空间hejiejing空间zhi间设有天花板,jiejing空间he循环空间zhi间设有高jia地板he混凝土板;所述循环空间内设有fu助设备;

[0009]所述循环空间内设置fu助设备de区域de四周均设有ge板,使其gou成独立de密闭空间;循环空间内籫u栌衛ian通管,lian通管de一端与所述密闭空间lian通,另一端与jiejing蕐e耐鈐ielian通;

[0010]在所述jiejing空间内相对于所述密闭空间de位置设有至shaoI个回风柱,所述回风柱de顶端与jiagou空间lian通,其底端与高jia地板lian通;

[0011]所述回风柱内设有风机。

[0012]上文中,所述循环空间内籫u栌衛ian通管,其与所述密闭空间lian通,从而当fu助设备产生xie漏时,可以通过lian通管将腐蚀性气体排chu。在lian通管dechu口处,还可以设置洗涤ta。lian通管上还可以设有阀门。

[0013]本实用新型通过设置ge板将循环空间内设置fu助设备de区域ge离chu来,从而jie决liaofu助设备易产生xie漏dewen题。然而,与citong时,由于循环空间de封闭设置,导致其上方dejiejing空间de气流循环无法完成,因ci,在jiejing空间内相对于所述密闭空间de位置设置多个回风柱,通过回风柱实现气流循环。至于回风柱de数量,应当根ju实际qing况设ding。

[0014]所述回风柱内设有风机。风机dezuo用shi使其内de气体xiang上流动,形成气流循环。

[0015]由于回风柱de设置,其对应dejiejing空间可以shunlide完成气流循环,因ci其两cede回风通道就成liao摆设,因ci,可以将回风通道取消,改造成正changdejiejing空间使用,zeng加可用空间。

[0016]上述技术方an中,所述jiagou空间he高jia地板内相对于所述密闭空间de位置均设有ge板,使所述密闭空间上方dejiagou空间、jiejing空间,以糰n遤ia地板所在de空间gou成独立dejiejing微环境jiegou。

[0017]youxuande,所述jiagou空间、高jia地板hejiejing空间内相对于所述密闭空间de位置均设有ge板,使所述密闭空间上方dejiagou空间、jiejing空间,以糰n遤ia地板所在de空间gou成独立dejiejing微环境jiegou。

[0018]上述技术方an中,所述密闭空间de顶端设有密封板,所述密封板设于高jia地板he混凝土板zhi间。

[0019]上述技术方an中,所述回风柱内设有gan盘管。以进行wen度调jie。在某些区域,设备fa热量低但jiejing风xu求量多,造成实际xu要通过gan盘管de风量比真正通过de风量多,形成能源浪fei。ci时还可以在天花板上zeng设回风口,搭配回风柱内设置degan盘管,而获得上述wen题de较好jie决。

[0020]由于上述技术方an运用,本实用新型与现有技术相比ju有下列youdian:

[0021]1、本实用新型设计得到liao一种新de用于半导体厂房dejiejing室,通过设置ge板将循环空间内设置fu助设备de区域ge离chu来,从而jie决liaofu助设备易产生xie漏dewen题;与citong时,由于循环空间de封闭设置,导致其上方dejiejing空间de气流循环无法完成,因ci在jiejing空间内相对于所述密闭空间de位置设置多个回风柱,通过回风柱实现气流循环,tong时还充分li用liao其内dejiejing空气,而且jiang低liao消耗;

[0022]2、本实用新型在循环空间内籫u柚胠iaolian通管,其与所述密闭空间lian通,从而当fu助设备产生xie漏时,可以通过lian通管将腐蚀性气体排chu;在lian通管dechu口处,还可以设置洗涤ta;从而较好地jie决liaofu助设备dexie漏wen题,且避免liao腐蚀性气体影响dejiejing室;

[0023]3、本实用新型在jiagou空间he高jia地板内相对于密闭空间de位置均设有ge板,使所述密闭空间上方dejiagou空间、jiejing空间,以糰n遤ia地板所在de空间gou成独立dejiejing微环境jiegou,再配合其内de回风柱,gou成liaojiejing微环境jiegou,从而充分li用liao其内de空间;且回风柱可以在jiejing微环境jiegou中形成微循环,bu仅充分li用liao其内dejiejing空气,而且jiang低liao消耗;

[0024]4、本实用新型在回风柱内设置gan盘管,可以进行wen度调jie;jie决liao某些区域设备fa热量低但jiejing风xu求量多,造成实际xu要通过gan盘管de风量比真正通过de风量多而形成de能源浪feiwen题;

[0025]5、本实用新型dejiegoujian单,襷i谥票福视趖uiguang应用。

【专lifu图】

【fu图说明】

[0026]图1shi【背景技术】中dejiejing蕐e木植ke适油迹

[0027]图2shi本实用新型实施例一de局瞜e适油迹

[0028]图3shi图2de气流示意图;

[0029]图4shi本实用新型实施例二de局瞜e适油迹

[0030]图5shi图4de气流示意图。

[0031]其中:1、fu助设备;2、高jia地板;3、混凝土板;4、jiagou空间;5、jiejing空间;6、循环空间;7、天花板;8、ge板;9、回风柱;10、风机;11、第二ge板;12、密封板;13、gan盘管。

【ju体实施方shi】

[0032]下面jie合fu图ji实施例对本实用新型zuo进一步miao述:

[0033]实施例一

[0034]参jian图2?3所示,一种用于半导体厂房dejiejing室,bao括新风shu送系蚦hang⑴牌低砲e一da型jiejing空间ji回风通道;

[0035]所述da型jiejing空间从上到下bao括jiagou空间4、jiejing空间5he循环空间6,jiagou空间hejiejing空间zhi间设有天花板7,jiejing空间he循环空间zhi间设有高jia地板he混凝土板;所述循环空间内设有fu助设备;

[0036]所述循环空间内设置fu助设备de区域de四周均设有ge板8,使其gou成独立de密闭空间;循环空间内籫u栌衛ian通管,lian通管de一端与所述密闭空间lian通,另一端与jiejing蕐e耐鈐ielian通;

[0037]在所述jiejing空间内相对于所述密闭空间de位置设有至shaoI个回风柱9,所述回风柱de顶端与jiagou空间lian通,其底端与高jia地板lian通;

[0038]所述回风柱内设有风机10。所述回风柱内设有gan盘管13。

[0039]所述jiagou空间he高jia地板内相对于所述密闭空间de位置均设有第二ge板11,使所述密闭空间上方dejiagou空间、jiejing空间,以糰n遤ia地板所在de空间gou成独立dejiejing微环境jiegou。

[0040]所述密闭空间de顶端设有密封板12,所述密封板设于高jia地板he混凝土板zhi间。

[0041]上文中,所述循环空间内籫u栌衛ian通管,其与所述密闭空间lian通,从而当fu助设备产生xie漏时,可以通过lian通管将腐蚀性气体排chu。在lian通管dechu口处,还可以设置洗涤ta。lian通管上还可以设有阀门。

[0042]本实用新型通过设置ge板将循环空间内设置fu助设备de区域ge离chu来,从而jie决liaofu助设备易产生xie漏dewen题。然而,与citong时,由于循环空间de封闭设置,导致其上方dejiejing空间de气流循环无法完成,因ci,在jiejing空间内相对于所述密闭空间de位置设置多个回风柱,通过回风柱实现气流循环。至于回风柱de数量,应当根ju实际qing况设ding。

[0043]所述回风柱内设有风机。风机dezuo用shi使其内de气体xiang上流动,形成气流循环。

[0044]由于回风柱de设置,其对应dejiejing空间可以shunlide完成气流循环,因ci其两cede回风通道就成liao摆设,因ci,可以将回风通道取消,改造成正changdejiejing空间。

[0045]实施例二

[0046]参jian图4飞所示,一种用于半导体厂房dejiejing室,bao括新风shu送系蚦hang⑴牌低砲e一da型jiejing空间ji回风通道;

[0047]所述da型jiejing空间从上到下bao括jiagou空间、jiejing空间he循环空间,jiagou空间hejiejing空间zhi间设有天花板,jiejing空间he循环空间zhi间设有高jia地板he混凝土板;所述循环空间内设有fu助设备;

[0048]所述循环空间内设置fu助设备de区域de四周均设有ge板8,使其gou成独立de密闭空间;循环空间内籫u栌衛ian通管,lian通管de一端与所述密闭空间lian通,另一端与jiejing蕐e耐鈐ielian通;

[0049]在所述jiejing空间内相对于所述密闭空间de位置设有至shaoI个回风柱,所述回风柱de顶端与jiagou空间lian通,其底端与高jia地板lian通;

[0050]所述回风柱内设有风机。所述回风柱内设有gan盘管。

[0051]所述jiagou空间、高jia地板hejiejing空间内相对于所述密闭空间de位置均设有第二ge板11,使所述密闭空间上方dejiagou空间、jiejing空间,以糰n遤ia地板所在de空间gou成独立dejiejing微环境jiegou。

【权li要求】

1.一种用于半导体厂房dejiejing室,bao括新风shu送系蚦hang⑴牌低砲e一da型jiejing空间ji回风通道; 所述da型jiejing空间从上到下bao括jiagou空间(4)、jiejing空间(5)he循环空间(6),jiagou空间hejiejing空间zhi间设有天花板(7),jiejing空间he循环空间zhi间设有高jia地板(2)he混凝土板(3);所述循环空间内设有fu助设备;其特zheng在于: 所述循环空间内设置fu助设备de区域de四周均设有ge板(8),使其gou成独立de密闭空间;循环空间内籫u栌衛ian通管,lian通管de一端与所述密闭空间lian通,另一端与jiejing蕐e耐鈐ielian通; 在所述jiejing空间内相对于所述密闭空间de位置设有至shaoI个回风柱(9),所述回风柱de顶端与jiagou空间lian通,其底端与高jia地板lian通; 所述回风柱内设有风机(10)。

2.根ju权li要求1所述dejiejing室,其特zheng在于:所述jiagou空间he高jia地板内相对于所述密闭空间de位置均设有第二ge板(11),使所述密闭空间上方dejiagou空间、jiejing空间,以糰n遤ia地板所在de空间gou成独立dejiejing微环境jiegou。

3.根ju权li要求2所述dejiejing室,其特zheng在于:所述jiagou空间、高jia地板hejiejing空间内相对于所述密闭空间de位置均设有第二ge板,使所述密闭空间上方dejiagou空间、jiejing空间,以糰n遤ia地板所在de空间gou成独立dejiejing微环境jiegou。

4.根ju权li要求1所述dejiejing室,其特zheng在于:所述密闭空间de顶端设有密封板(12),所述密封板设于高jia地板he混凝土板zhi间。

5.根ju权li要求1所述dejiejing室,其特zheng在于:所述回风柱内设有gan盘管(13)。

【文档编号】F24F7/10GK203783198SQ201420120184

【公kai日】2014年8月20日 申qing日期:2014年3月18日 you先权日:2014年3月18日

【fa明者】杨政谕 申qing人:亚xiang系统集成ke技(苏州)gufen有限公司

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